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爱思强推出PRODOS-200 PVPD™研发系统
爱思强推出新型PRODOS-200 PVPDTM系统，致力发展用于沉积有机薄膜材料的新应用。其创新的系统理念为研究聚合薄膜的新沉积工艺提供了研发平台。此外，基于其经过广泛验证的近耦合喷淋头®技术，其高沉积速率、优良的沉积均一性和基板尺寸伸缩性，能保证设备便捷地切换至大规模生产工艺。
爱思强PRODOS-200 系统为有机电子产业提供新的可能
因此，这套系统可用于应用前景广泛的有机电子的新工艺开发。（例如，新型柔性导电层；表面特性的控制；以及柔性阻挡层），或改进现有的工艺和结构。
PRODOS- 可用于实施多种PVPDTM工艺，其中基于载气的气相沉积可在原处形成聚合薄膜，用于功能性聚合物薄膜层的形成。与通�；谌芤旱拇尘酆瞎ひ障啾�，PVPDTM 工艺是一种“全干燥工艺”，根据操作原理，溶剂不会产生任何副作用。
PRODOS-200平台可容纳最大达200x200mm²的基板，且可通过相关的半兼容接口集成入集群环境。因此，平台可与OVPD® 研发系统等其他爱思强系统相兼容，集各种针对有机和无机薄膜的薄膜技术于一身，适用于复杂的工艺环境。因此，这套系统有助于为有机电子元件(OTFT、OPV、OLED)领域开发和应用新化合物。系统采用双壁室结构，不仅极大地方便了维修工作，且可根据其他工艺需要迅速进行改造。
“爱思强PVPDTM工艺具备众多优势，是用于聚合物薄膜及其特性有助提高效率的新应用的理想选择。”爱思强首席运营官Bernd Schulte博士表示，“我们的客户已成功运用这一工艺生产多种功能性层。聚合物拥有广泛的应用前景。未来我们将继续与各合作伙伴密切合作，不断改进，使这一新技术平台能满足更多工艺需求。”
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