据上海松江官微消息,位于松江综保区的尼西半导体科技(上海)有限公司,已经建成全球首条35微米功率半导体超薄晶圆工艺及封装测试生产线。
这一厚度突破让功率芯片的导通电阻和热阻大幅降低,显著提升了器件的能效与散热性能,为新能源汽车、5G基站等高功率密度应用场景提供了核心支撑,为国产器件进入高压平台、快充等市场提供了量产底座。
据悉,这条产线的稳定运行,依托于公司研发人员在一系列关键设备上的开发和钻研,以及生产过程中精良的工艺管控。键合机用于晶圆与玻璃载片的临时键合,对位误差控制在120微米以内,单日产能约400片。研磨机加工精度达0.1微米,片内厚度偏差小于2微米。激光切割机切缝宽度仅11微米,相较传统刀片切割可提升约10%的芯片有效面积利用率。解键合机通过激光实现玻璃与晶圆分离,并配套去胶工艺,破片率较低且化学品使用量小。从键合、研磨、切割到测试环节,产线均配备专用设备,其中测试环节单日产出可达12万颗成品。
此外,该产线中的关键设备由公司工程师与国内设备厂商联合研发,通过协同创新实现了核心装备的自主可控,填补了国内相关技术空白。
【在线研讨会邀请】
主题为“液相法突围:碳化硅8英寸时代的‘晶’界革命”的线上会议将于3月13日(周五)14:00开启!本次研讨会将聚焦液相法在碳化硅8英寸晶圆制备中的突破性进展,诚邀化合物半导体行业从业者、碳化硅材料及器件研发人员参会交流,共同把握8英寸时代技术先机!立即报名锁定席位:http://www.xgp4kdr5.cn/seminar/into/20260313?invitation_code=CSC
| 上一篇:北方华创与中国有研签署... | 下一篇:科技部部长:中国芯片攻... |