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ASML携蔡司研发新一代Hyper NA EUV设备

      材料来源：外媒

据外媒报道，近日，ASML技术高级副总裁Jos Benschop在受访时表示，该企业已与光学组件独家合作伙伴蔡司一同启动了单次曝光实现5nm分辨率的Hyper NA光刻机开发，能满足2035年乃至更后阶段的产业需求。
更高的分辨率意味着先进制程企业可减少曝光次数、提升光刻图案质量。ASML目前出货的最先进光刻机采用High NA (0.55NA)光学系统，分辨率为8nm。
Jos Benschop表示，ASML尚未设定Hyper NA光刻机推出的目标日期，不过项目开发目标是将NA（数值孔径）进一步提升到0.7乃至更高。
 
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