专注ALD创新 助力超越摩尔
文/JulieC
2021年5月25日，青岛思锐智能与国家智能传感器创新中心战略合作签约仪式暨SRII旗下BENEQ ALD产品技术路演在上海市嘉定区皇庆路333号隆重落幕！《化合物半导体》媒体记者受邀参加了本次会议！
本次会议以“专注ALD创新 助力超越摩尔”为主题，促进了双方进一步深化产业合作，共同探索开发行业市场，推动实现互利共赢、高质量融合发展。青岛四方思锐智能技术有限公司（以下简称“思锐智能”）总经理聂翔先生及国家智能传感器创新中心副总裁焦继伟博士分别进行了相关致辞。
产业合作齐发力 共促“超越摩尔”实现高质量发展
“青岛四方思锐智能有限公司自2018年成立以来，始终对标国家战略性新兴产业发展方向，致力于成为世界一流的ALD设备和服务供应商！” 青岛四方思锐智能有限公司总经理聂翔先生如是说，“面对半导体装备关键核心技术，思锐智能全资收购了芬兰的BENEQ公司，通过以芬兰的BENEQ公司为海外技术研发中心，同时组建国内的技术中心和产业化中心，为客户提供一流创新和灵活的ALD设备和解决方案。”
与此同时，他还强调，国家智能传感器创新中心是我国超越摩尔领域首屈一指的领导者，超越摩尔领域也是思锐智能业务的重要方案之一，与国家智能传感器创新中心的全面战略合作也是思锐智能公司深化在半导体领域的布局，更是深化在超越摩尔领域布局最重要的战略举措！目前，思锐智能与国家智能传感器创新中心建立了一个联合的研发实验室，已完成工艺测试，且开始全面投入使用。此外，在国家智能传感器创新中心的大力支持之下，思锐智能建立了上海分公司，整体的办公室都已全面投入使用。未来双方将面向超摩尔领域，重点开展面向MEMS和CMOS图像传感器等重要领域的联合研发，以开放包容的机制为行业提供全面系统的技术解决方案，共同推进ALD技术和设备的研发，助力超越摩尔领域取得更快速更全面的发展。
青岛四方思锐智能有限公司总经理聂翔
国家智能传感器创新中心副总裁焦继伟博士在致辞中表示，国家智能传感器创新中心以“企业+联盟”的运行模式，于2018年7月正式启动，始终致力于建设传感器关键共性技术的研发平台，推进建设国内智能传感器创新体系，携手产业链上下游合作伙伴，建设完整的国内智能传感器应用生态链。与此同时，思锐智能与国家智能传感器创新中心不谋而合，双方都对超越摩尔产业情有独钟，以ALD设备和技术作为起点和支点建立一个战略合作的关系，未来在制造设备的国产化本土化，包括半导体的新材料、MEMS新工艺和ALD的人工智能、互联网整个新应用等合作方面的成果也非常值得期待！除此之外，他还补充说，近半年来，双方共同成立了一个联合研发实验室，在国创中心也设立了思锐智能上海公司办公室，8英寸工业量产ALD设备也进入了超越摩尔研发中试线，落户上海智能传感器产业园， 双方的合作其实已经在快速和顺利的推进过程中。本次战略合作签约仪式，见证了双方合作跨上了一个新的台阶，今后双方也期待与产业合作伙伴在超越摩尔这个赛道上携手前进，共创美好未来！
国家智能传感器创新中心副总裁焦继伟
左：青岛四方思锐智能有限公司总经理聂翔，右：国家智能传感器创新中心副总裁焦继伟
协同赋能业务发展 聚焦原子层沉积ALD技术
在产品技术研讨和路演环节中，思锐智能总经理聂翔先生介绍了思锐智能旗下ALD设备制造商BENEQ最新发展状况。思锐智能主要涉及两方面的业务，包括半导体设备及显示装备。近几年来，思锐智能也在大力拓展日本和台湾地区的市场，在日本横滨设立了在日本销售和客户服务的公司。目前，公司主要以BENEQ为整体海外研发中心，逐步开展整个ALD镀膜以及薄膜电致发光显示器的本地化技术研发工作。
关于思锐智能的服务方面，聂总娓娓道来：思锐智能主要提供三方面的服务，包括开发服务，整体ALD的设备以及镀膜服务。在开发服务方面，思锐智能通过提供一系列整套的研发服务解决方案，帮助客户实现一些首批样品批量生产；在整体ALD的设备方面，这些设备可应用于不同的领域以及不同的场景；在镀膜服务方面，思锐智能欧洲的研发中心拥有超过70台ALD镀膜设备，通过这些设备，我们可进行定制化的薄膜生产外包，小规模的试产或者大规模的外包。
青岛四方思锐智能有限公司总经理聂翔
为了让大家更好地了解原子层沉积ALD技术，聂总通过一些原理基础对比图给大家进行了相关分析：“从PVD和CVD的对比来看，整个原子层沉积技术的ALD技术可以使镀膜材料以单原子层的形式沉积在表面，由于沉积的薄膜厚度，使我们在镀膜厚度的控制方面具有非常好的特性，包括特别适用于高深宽比的3D复杂材料的器件，在均匀性等方面均有显著的优势。整个的原子层沉积的ALD技术应该说是集成电路、超越摩尔应用，包括一些泛半导体和其他的光学和锂电池等新兴领域的工业镀膜的关键技术。”
BENEQ公司有40多年整个ALD使用的经验，思锐智能依托于收购的BENEQ公司，包括目前通过芬兰和国内两方面的协同创新，具备了对ALD设备以及服务进一步的创新能力，未来希望能够聚焦于超越摩尔、集成电路和泛半导体的领域，快速拓展到光学和锂电等领域，为客户提供一流、创新的ALD解决方案，！
云端连线BENEQ业务及技术专家 共拓“超越摩尔”产业大机遇
会议现场，思锐智能云端连线了位于BENEQ半导体业务负责人Patrick Rabinzohn，实时分享了BENEQ ALD和半导体ALD产品的应用和在功率氮化镓、SiC、RF等超越摩尔领域应用的技术详解。
ALD技术起源于芬兰， BENEQ成立于2005年，并于同年开始销售ALD设备。之后BENEQ收购了这家Planar Systems公司的整个工厂以及业务线，在2005-2012年期间，逐步完成了整个公司业务线的收购，除了这家公司的P系列ALD设备，BENEQ也开发了自己的研发设备TFS200。
在思锐智能收购BENEQ的次年即2019年，BENEQ不断推出了新系列产品，包括BENEQ Transform平台，奠定了整体业务的基石。当前BENEQALD有两条业务线，分别是分为半导体ALD业务线和非半导体业务线。非半导体业务线，主要包括抗腐蚀镀膜器件、保形光学镀膜、OLED封装、锂电池�；げ愕鹊�，既聚焦于研发设备，也聚焦于工业级应用。半导体ALD业务线，重点发展了超越摩尔市场的应用，其中包括功率器件、RF滤波器器件以及化合物半导体、惯性流体3D MEMS和图像传感器，Micro-LED以及芯片级镀膜封装。
在技术应用方面，BENEQ半导体业务负责人Patrick Rabinzohn的同事给大家介绍了BENEQ Transform平台在超摩尔市场中的应用。BENEQ Transform平台拥有一定的灵活性，集热法ALD以及等离子增强型ALD所有的功能于一体的设备。同时，该平台拥有非常高的生产效率，加载了一个非常小的红外加热模块，在10-15秒就可实现晶圆的升温，极大缩短了工艺所需的加热时间，极大地提升了生产产能。此外，该平台可维护性非常强，且便于检修，不需要移动任何螺丝就能够快速地进行维护。Transform总体配置的设计拥有非常丰富的工艺应用，比如说诸多的氧化物、氮化物，包括氧化铝、氧化硅、氧化钛等。氮化物包括氮化钛、氮化铝、氮化硅等等。BENEQ Transform平台拥有非常高的可靠性和通用性，可根据不同的应用需求和通量需求，做出适应性的调整。
在超越摩尔领域聚焦和技术优势上，BENEQ的半导体业务技术总监Alexander Perros进行了相关介绍。他通过图片展示了超摩尔市场的应用矩阵，具体的细分市场，包括功率器件、滤波器、MEMS和CIS、Micro-OLED、Micro-LED和光电子。针对不同的细分市场，BENEQ推出了不同的ALD解决方案，在表面钝化方面，可用不同ALD材料来实现表面钝化。在ALD成核层方面，可针对射频和图像传感器等诸多的应用。在化学阻挡层方面，可用复合的化合物在RF滤波器或者是MEMS以及其他的传感器方面来使用。
防潮层方面，可用于Micro-OLED等其他的应用。在抗反射镀膜方面，可用于Micro-LED和Micro-OLED领域。
此外，BENEQ的半导体业务技术总监Alexander Perros还针对功率器件的应用，高保形、高性能的ALD材料实现沟槽碳化硅MOSFET的应用，RF滤波器的解决方案，ALD在RF IC的应用，CMOS图像传感器在ALD的应用发展，进行了相关的阐述。
青岛思锐智能与国家智能传感器创新中心战略合作签约仪式暨SRII旗下BENEQ ALD产品技术路演圆满落幕，期待双方在超越摩尔赛道上取得更多优秀成果，推动产业全面创新发展！
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