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湖州维德光电科技有限公司展出第三代半导体材料GaAs、SiC、GaN所用石英反应腔体
材料来源：SEMI中国
展位号：E5-5112
自主研发各类单片机、多片砷化镓GaAs、碳化硅SiC、氮化镓GaN衬底生长的石英反应腔体，从早期垂直生长反应腔，到目前横向生长反应腔体，以及各类混合气体石英喷头。
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